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2021年10月22日的文章

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无需EUV光刻机 铠侠开发NIL半导体工艺:直奔5nm

zhaods阅读(569)赞(0)

  在半导体工艺进入10nm节点之后,EUV工艺是少不了的,但是EUV光刻机价格高达10亿一台,而且产量有限,导致芯片生产成本很高。日本铠侠公司现在联合伙伴开发了新的工艺,可以不使用EUV光刻机,工艺直达5nm。   据据日媒报导,铠侠从2...